Cén chaoi a gcinntíonn an meaisín plating PVD aonfhoirmeacht sa tiús sciath thar chodanna éagsúla?

An seomra folúis i Meaisín plating PVD Tá ról ríthábhachtach aige maidir le haonfhoirmeacht tiús sciath a chinntiú. I bhfolús, coinnítear an brú ag leibhéil an -íseal, a íoslaghdaíonn éilliú ó cháithníní aeir agus a cheadaíonn taisteal gan bhriseadh miotail vaporized i dtreo na bhfoshraitheanna. Cinntíonn an timpeallacht fholús seo go bhfuil cosán comhsheasmhach ag an ábhar atá á thaisceadh do gach réimse de na codanna, rud a chuireann ciseal sciath aonfhoirmeach chun cinn. Gan cur isteach ar fhriotaíocht aeir, is féidir leis na cáithníní vaporized an dromchla sprice a bhaint amach le scaipeadh íosta, ag soláthar dáileadh níos aonfhoirmí den ábhar sciath.

Chun sciath aonfhoirmeach a chur chun cinn a thuilleadh, tá go leor córas PVD feistithe le daingneáin rothlacha nó ascalacha chun na codanna a phlátáil. Cinntíonn sé seo go bhfuil gach cuid nochta don ábhar brataithe ó uillinneacha éagsúla, ag fáil réidh le limistéir a d'fhéadfadh sciath iomarcach nó neamhleor a fháil ar shlí eile. Trí na codanna a rothlú nó a aistriú, éascaíonn an meaisín próiseas sil-leagain níos cothroime, ag cinntiú nach ndéantar faillí ar aon chuid den fhoshraith ná nach bhfuil ró-bhrataithe. Cuidíonn gluaiseacht na gcodanna leis an ábhar galraithe a dháileadh níos cothroime freisin, go háirithe i gcás codanna le geoiméadraí casta nó il -dhromchlaí.

Is gné bhunúsach é rialú beacht ar an ráta sil -leagain chun tiús sciath aonfhoirmeach a bhaint amach i bpláta PVD. Tagraíonn an ráta sil -leagan do cé chomh tapa agus a dhéantar an t -ábhar sciath a ghalú agus a thaisceadh ar an tsubstráit. Coinníonn córas rialaithe an mheaisín PVD ráta seasta tairiseach chun buildup comhsheasmhach an sciath a chinntiú. D'fhéadfadh tiús míchothrom a bheith mar thoradh ar luaineachtaí sa ráta seo, mar sin déantar monatóireacht chúramach ar pharaiméadair an phróisis amhail ionchur cumhachta, ráta galúcháin ábhair, agus brú an tseomra chun an teistíocht a choinneáil comhsheasmhach. Cuireann an ráta sil -leagain aonfhoirmeach cosc ​​ar fhoirmiú spotaí níos tibhe nó níos tanaí, ag cinntiú go gcomhlíonann an táirge deiridh caighdeáin bheachta.

Tá suíomh straitéiseach na foinse sciath (sprioc) riachtanach chun dáileadh fiú brataithe a bhaint amach. I go leor córas PVD, úsáidtear il -spriocanna sputtering nó galúcháin, agus tá gach sprioc suite chun ábhar vaporized a threorú i dtreo réimsí sonracha de na foshraitheanna. Cinntíonn dearadh an chórais go ndéantar an miotal vaporized a stiúradh go haonfhoirmeach thar dhromchla iomlán na coda. Soláthraíonn ilspriocanna, go háirithe nuair a chumraítear iad i bpatrún ciorclach nó gathacha thart ar an gcuid, sil -leagan níos cothroime. Trí ailíniú foinse cuí a chinntiú agus suíomh an spriocábhair a choigeartú, is féidir leis an meaisín sreabhadh gaile a bharrfheabhsú, aonfhoirmeacht a fheabhsú thar chodanna éagsúla.

Is minic a úsáidtear córais sputtering nó ilfhoinse sprice nó il-fhoinse i meaisíní PVD ardleibhéil chun fiú sciath a chinntiú. Baineann na córais seo úsáid as níos mó ná sprioc amháin, ar féidir iad a choigeartú go neamhspleách nó a úsáid i gcomhar le sil -leagan aonfhoirmeach gaile a sholáthar. Is féidir gach sprioc a bheith suite chun crios nó uillinn ar leith den chuid a chlúdach, ag cinntiú go bhfaigheann gach dromchlaí an méid céanna ábhair. Méadaíonn úsáid na gcóras il-spriocdhírithe rothlach nó aistrithe an dóchúlacht go dtarlóidh sciath aonfhoirmeach thar chodanna de chruthanna agus de mhéideanna éagsúla. Cumasaíonn an chumraíocht seo bratuithe níos casta freisin, amhail bratuithe ilchisealacha, a dteastaíonn rialú beacht uathu ar an bpróiseas sil-leagan.